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LKJ-1C 离子束刻蚀机

LKJ-1C 离子束刻蚀机

核心优势

大口径离子源设计：150mm离子源口径，提供均匀稳定的离子束流
宽范围能量调节：离子能量0-800eV可调，工作范围200-650eV，适应不同材料需求
超高真空系统：极限真空≤1×10⁻⁴Pa，工作真空≤5×10⁻⁴Pa，减少杂质干扰
精确参数控制：束流密度≥0.7mA/cm²，实用束流密度0.2-0.6mA/cm²，确保刻蚀一致性
灵活刻蚀角度：刻蚀角范围0-90°，支持多维度加工需求

核心硬件配置

离子源系统	大口径考夫曼离子源，口径150mm
离子能量范围	0-800eV（工作范围：200-650eV）
真空系统	分子泵+机械泵组合，极限真空≤1×10⁻⁴Pa
束流控制系统	峰值密度≥0.7mA/cm²，实用密度0.2-0.6mA/cm²
刻蚀工作台	自转速度9rpm，表面温度10-25℃可控

详细技术规格

离子源参数

离子源口径	150 mm
离子能量范围	0-800 eV
工作离子能量范围	200-650 eV
离子束流峰值密度	≥0.7 mA/cm²
实用离子束密度	0.2-0.6 mA/cm²
有效束径	≥100 mm

真空与气体系统

系统极限压强	≤1×10⁻⁴ Pa
系统工作本地压强	≤5×10⁻⁴ Pa
氩气质量流量控制范围	0-10 sccm
流量控制准确度	±15%
流量控制精度	±0.2%

刻蚀参数

刻蚀角范围	0-90°
刻蚀台自转速度	9 rpm
刻蚀台表面温度	10℃-25℃

主要特点与功能

大口径离子源：提供大面积均匀刻蚀，有效束径≥100mm
能量精确控制：0-800eV宽范围能量调节，满足不同材料刻蚀需求
束流稳定性：高稳定度束流控制，确保刻蚀均匀性和重复性
角度灵活调节：0-90°刻蚀角范围，支持各向同性和各向异性刻蚀
温度可控：刻蚀台表面温度10-25℃可控，减少热效应影响
自动化控制：触摸屏人机界面，支持程序化控制与数据记录
气体精准控制：质量流量计控制，流量精度±0.2%
模块化设计：易于维护升级，支持功能扩展

典型应用： 微电子器件制造、光学元件加工、MEMS器件制备、材料表面改性、纳米结构加工、薄膜器件刻蚀

配套设备与选件

标准配置	主蚀刻室、离子源系统、真空泵组、控制柜、操作软件
可选配件	在线膜厚监测仪、样品加热台、自动送样系统、多靶材溅射系统
电源要求	三相380V±10%，50/60Hz，功率≤5kW
冷却水要求	温度15-25℃，压力0.2-0.4MPa，流量≥10L/min
设备尺寸	1500mm(宽)×1200mm(深)×1800mm(高)
设备重量	约800kg

技术规格摘要

离子源口径	150 mm
离子能量范围	0-800 eV
有效束径	≥100 mm
极限真空	≤1×10⁻⁴ Pa
刻蚀角范围	0-90°

LKJ-1C 离子束刻蚀机技术规格信息 | 精密制造解决方案

注：技术参数如有变更，恕不另行通知